武汉新创元半导体有限公司

武汉新创元半导体有限公司成立于2021年7月，注册资本2.8亿元，位于武汉光谷东湖新技术开发区未来科技城九龙湖街。 公司立足于IC载板的研发、生产及销售，拥有全球独创的离子注入镀膜、精细光刻、加成法等高精度载板工艺技术，获得多项国内外发明专利。生产的产品可应用于存储器、应用处理器、射频模块等多个领域。